Process parameter selection apparatus, process parameter selection method, process parameter selection program, and program storage medium

WO2010119939 Art A1 21. Oktober 2010

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010119939
Aktenzeichen: EP10764521
Anmeldetag: 16. April 2010
Veröffentlichung: 21. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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