Method and apparatus for residue detection in the edge deleted area of a substrate

WO2010121112 Art A2 21. Oktober 2010

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010121112
Aktenzeichen: EP10765246
Anmeldetag: 16. April 2010
Veröffentlichung: 21. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/88G01N21/47G01B11/06G01B11/30H01L21/67

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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