Lithographic projection apparatus and device manufacturing method

WO2010121844 Art A1 28. Oktober 2010

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010121844
Aktenzeichen: EP10701534
Anmeldetag: 28. Januar 2010
Veröffentlichung: 28. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01R13/03

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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