Radiation-sensitive resin composition, polymer, and method for forming resist pattern

WO2010123009 Art A1 28. Oktober 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010123009
Aktenzeichen: EP10767066
Anmeldetag: 20. April 2010
Veröffentlichung: 28. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/22G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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