Radiation-Sensitive Resin Composition

WO2010123101 Art A1 28. Oktober 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010123101
Aktenzeichen: EP10767156
Anmeldetag: 23. April 2010
Veröffentlichung: 28. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F220/28G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von