Slurry for chemical mechanical polishing
WO2010123300
Art A2
28. Oktober 2010
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010123300
- Aktenzeichen
- EP10767314
- Anmeldetag
- 22. April 2010
- Veröffentlichung
- 28. Oktober 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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