Zirconium Precursors Useful in Atomic Layer Deposition Of Zirconium-Containing Films

WO2010123531 Art A1 28. Oktober 2010

Anmelder: Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010123531
Aktenzeichen: EP09843794
Anmeldetag: 21. Dezember 2009
Veröffentlichung: 28. Oktober 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/00C01G25/02H01B3/10H01G9/07H01L21/8242

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Advanced Technology Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Advanced Technology Materials

Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

458 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie

Vertreten von