Lithographic apparatus and detector apparatus

WO2010124910 Art A1 4. November 2010

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010124910
Aktenzeichen: EP10711200
Anmeldetag: 23. März 2010
Veröffentlichung: 4. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01J1/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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