Semiconductor device and method for fabricating same

WO2010125810 Art A1 4. November 2010

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010125810
Aktenzeichen: EP10769510
Anmeldetag: 28. April 2010
Veröffentlichung: 4. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/28H01L21/285H01L21/336H01L21/8234H01L21/8238H01L27/088H01L27/092H01L29/423H01L29/49

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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