Photosensitive resin composition, photosensitive element utilizing the composition, method for formation of resist pattern, and process for production of printed circuit board

WO2010126006 Art A1 4. November 2010

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., Shanghai Jiao Tong University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010126006
Aktenzeichen: EP10769704
Anmeldetag: 26. April 2010
Veröffentlichung: 4. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031C07D241/42C08F2/50C08F220/06G03F7/004G03F7/033H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Shanghai Jiao Tong University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von