Photosensitive resin composition, photosensitive element utilizing the composition, method for formation of resist pattern, and process for production of printed circuit board

WO2010126006 Art A1 4. November 2010

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd., Shanghai Jiao Tong University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010126006
Aktenzeichen: EP10769704
Anmeldetag: 26. April 2010
Veröffentlichung: 4. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031C07D241/42C08F2/50C08F220/06G03F7/004G03F7/033H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Shanghai Jiao Tong University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Die Shanghai Jiao Tong University ist eine der führenden chinesischen Universitäten mit breiter Forschung in Technik, Medizin und Naturwissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Software und Datenverarbeitung, ergänzt durch Pharma und Biotechnologie sowie Nachrichtentechnik. Anmeldungen reichen von 2003 bis 2025.

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