Flood Exposure Process For Dual Tone Development in Lithographic Applications

WO2010126735 Art A1 4. November 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010126735
Aktenzeichen: EP10770130
Anmeldetag: 19. April 2010
Veröffentlichung: 4. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: A61N5/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit

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