Method for forming an anodized layer, method for manufacturing a mold, and mold

WO2010128662 Art A1 11. November 2010

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010128662
Aktenzeichen: EP10772180
Anmeldetag: 6. Mai 2010
Veröffentlichung: 11. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C25D11/16B29C33/38B29C33/42B82B1/00B82B3/00G02B1/11H01L21/027B29L11/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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