Apparatus and system for cleaning substrate
WO2010129115
Art A2
11. November 2010
Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010129115
- Aktenzeichen
- EP10772426
- Anmeldetag
- 30. März 2010
- Veröffentlichung
- 11. November 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/302H01L21/304
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM Research Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Fachgebiete
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