Surface wave plasma cvd apparatus and film forming method

WO2010131366 Art A1 18. November 2010

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010131366
Aktenzeichen: EP09844639
Anmeldetag: 15. Mai 2009
Veröffentlichung: 18. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/511H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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