Exposure apparatus and device manufacturing method

WO2010131490 Art A1 18. November 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010131490
Aktenzeichen: EP10774749
Anmeldetag: 17. Mai 2010
Veröffentlichung: 18. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027F16F15/02F16F15/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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