Optical apparatus, exposure apparatus, exposure method, and method for producing device

WO2010131774 Art A1 18. November 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010131774
Aktenzeichen: EP10725898
Anmeldetag: 13. Mai 2010
Veröffentlichung: 18. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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