Solution based lanthanide and group iii precursors for atomic layer deposition

WO2010132192 Art A1 18. November 2010

Anmelder: Linde AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010132192
Aktenzeichen: EP10775245
Anmeldetag: 26. April 2010
Veröffentlichung: 18. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: B01J35/10B05D5/12H01G4/005

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Linde AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Linde

Deutscher Industriegasekonzern mit Wurzeln in München, gegründet 1879. Entwickelt und liefert technische Gase sowie Anlagen zur Gasverarbeitung für Industrie, Medizin und Energiewirtschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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