Radiation-sensitive resin composition and compound
WO2010134477
Art A1
25. November 2010
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010134477
- Aktenzeichen
- EP10777710
- Anmeldetag
- 14. Mai 2010
- Veröffentlichung
- 25. November 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C65/10C08F212/06C08F220/12C08F220/28G03F7/004G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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