Cleaning method, exposure method, and device manufacturing method

WO2010134623 Art A1 25. November 2010

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010134623
Aktenzeichen: EP10727150
Anmeldetag: 19. Mai 2010
Veröffentlichung: 25. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B3/12G02B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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