Selective Self-Aligned Double Patterning Of Regions in an Integrated Circuit Device

WO2010135120 Art A2 25. November 2010

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010135120
Aktenzeichen: EP10778122
Anmeldetag: 12. Mai 2010
Veröffentlichung: 25. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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