Techniques for processing a substrate

WO2010135661 Art A1 25. November 2010

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010135661
Aktenzeichen: EP10778477
Anmeldetag: 21. Mai 2010
Veröffentlichung: 25. November 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G21K5/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik

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