Charged particle beam device and sample observation method

WO2010137257 Art A1 2. Dezember 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010137257
Aktenzeichen: EP10780218
Anmeldetag: 18. Mai 2010
Veröffentlichung: 2. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28G01N23/225H01J37/05H01J37/244H01J37/29H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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