Plasma processing apparatus and method for cleaning same

WO2010137397 Art A1 2. Dezember 2010

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha, Nissin Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010137397
Aktenzeichen: EP10780354
Anmeldetag: 29. März 2010
Veröffentlichung: 2. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/44H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sharp Kabushiki Kaisha
Nissin Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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🇯🇵 Nissin Electric

Nissin Electric ist ein japanischer Hersteller elektrischer Anlagen und Halbleiterfertigungsausrüstung mit Sitz in Kyoto. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleitertechnik und Metallurgie, ergänzt durch Schaltungs- und Energietechnik. Die Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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