Surface observation device and surface observation method

WO2010140511 Art A1 9. Dezember 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010140511
Aktenzeichen: EP10783295
Anmeldetag: 25. Mai 2010
Veröffentlichung: 9. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N23/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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