Defect image processing apparatus, defect image processing method, semiconductor defect classifying apparatus, and semiconductor defect classifying method

WO2010140577 Art A1 9. Dezember 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010140577
Aktenzeichen: EP10783360
Anmeldetag: 1. Juni 2010
Veröffentlichung: 9. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66G01N23/225

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von