Charged particle beam device and evaluation method using the charged particle beam device

WO2010140649 Art A1 9. Dezember 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010140649
Aktenzeichen: EP10783431
Anmeldetag: 3. Juni 2010
Veröffentlichung: 9. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20G01B15/00H01L21/66H01L21/683

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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