Method of forming pattern using actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition, and pattern

WO2010140709 Art A1 9. Dezember 2010

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010140709
Aktenzeichen: EP10783491
Anmeldetag: 3. Juni 2010
Veröffentlichung: 9. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/30C08F20/28G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/32H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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