Method for contact hole formation, method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

WO2010143283 Art A1 16. Dezember 2010

Anmelder: Pioneer Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010143283
Aktenzeichen: EP09845808
Anmeldetag: 10. Juni 2009
Veröffentlichung: 16. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/768H01L21/28H01L21/283H01L21/312H01L21/336H01L23/522H01L29/423H01L29/49H01L29/786H01L51/05H01L51/40H01L51/50H05B33/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Pioneer Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Pioneer

Japanisches Elektronikunternehmen mit Sitz in Tokio. Pioneer ist bekannt für Unterhaltungselektronik, Car-Audio- und Navigationssysteme sowie Displaytechnologien und Audio- und Videotechnik.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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