Cyclic compound, photoresist base material, and photoresist composition
WO2010143436
Art A1
16. Dezember 2010
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010143436
- Aktenzeichen
- EP10785968
- Anmeldetag
- 10. Juni 2010
- Veröffentlichung
- 16. Dezember 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07C69/76G03F7/004G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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