Adjusting Current Ratios in Inductively Coupled Plasma Processing Systems

WO2010144555 Art A2 16. Dezember 2010

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010144555
Aktenzeichen: EP10786764
Anmeldetag: 9. Juni 2010
Veröffentlichung: 16. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H01L21/3065H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von