Method of overlay measurement, lithographic apparatus, inspection apparatus, processing apparatus and lithographic processing cell

WO2010145951 Art A2 23. Dezember 2010

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010145951
Aktenzeichen: EP10721522
Anmeldetag: 3. Juni 2010
Veröffentlichung: 23. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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