Charged particle radiation device

WO2010146790 Art A1 23. Dezember 2010

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010146790
Aktenzeichen: EP10789175
Anmeldetag: 3. Juni 2010
Veröffentlichung: 23. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/16F16F1/40F16F15/04H01J37/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik

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