Photo mask, photolithography method, substrate production method and display panel production method

WO2010146965 Art A1 23. Dezember 2010

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010146965
Aktenzeichen: EP10789340
Anmeldetag: 21. Mai 2010
Veröffentlichung: 23. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08G02F1/1368G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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