Temperature increase control method for heating device for substrate treatment system, computer recording medium, and substrate treatment system

WO2010147057 Art A1 23. Dezember 2010

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010147057
Aktenzeichen: EP10789432
Anmeldetag: 11. Juni 2010
Veröffentlichung: 23. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027H01L21/02H05B3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von