Radiation-sensitive resin composition, method for forming a resist pattern, compound, and polymer

WO2010147099 Art A1 23. Dezember 2010

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010147099
Aktenzeichen: EP10789474
Anmeldetag: 15. Juni 2010
Veröffentlichung: 23. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F20/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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