Mask blank, transfer mask, and method for manufacturing transfer masks
WO2010147172
Art A1
23. Dezember 2010
Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2010147172
- Aktenzeichen
- EP10789546
- Anmeldetag
- 17. Juni 2010
- Veröffentlichung
- 23. Dezember 2010
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F1/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hoya Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hoya
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.
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