Method for reprocessing semiconductor substrate and method for manufacturing soi substrate

WO2010150671 Art A1 29. Dezember 2010

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010150671
Aktenzeichen: EP10791989
Anmeldetag: 8. Juni 2010
Veröffentlichung: 29. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/20H01L21/306H01L21/322H01L27/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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