Gas treatment device

WO2010150731 Art A1 29. Dezember 2010

Anmelder: Chiyoda Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010150731
Aktenzeichen: EP10792049
Anmeldetag: 21. Juni 2010
Veröffentlichung: 29. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: C10L3/10B01D53/18B01J19/02

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Chiyoda Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Chiyoda

Chiyoda ist ein japanisches Ingenieur- und Anlagenbauunternehmen mit Sitz in Yokohama, das Anlagen für die Öl-, Gas- und Chemieindustrie plant und errichtet. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Verfahrens- und Trenntechnik sowie anorganische und organische Chemie, unter anderem im Bereich Flüssiggasverfahren. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von