Chemical vapor deposition process for aluminum silicon nitride

WO2010151856 Art A2 29. Dezember 2010

Anmelder: Cornell University 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2010151856
Aktenzeichen: EP10792779
Anmeldetag: 28. Juni 2010
Veröffentlichung: 29. Dezember 2010
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/318H01L21/31H01L21/205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cornell University
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cornell University

Die Cornell University ist eine private Universität in Ithaca, New York (USA), die in Forschung und Lehre über zahlreiche natur- und ingenieurwissenschaftliche Fachrichtungen aktiv ist.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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