Polishing device, polishing method, exposure device, and device producing method

WO2011001740 Art A1 6. Januar 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011001740
Aktenzeichen: EP10793911
Anmeldetag: 7. Mai 2010
Veröffentlichung: 6. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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