Gas field ionization ion source device and scanning charged particle microscope equipped with same

WO2011001797 Art A1 6. Januar 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011001797
Aktenzeichen: EP10793967
Anmeldetag: 8. Juni 2010
Veröffentlichung: 6. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/26H01J37/08H01J37/28H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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