Function-gradient inorganic resist, substrate with function-gradient inorganic resist, cylindrical substrate with function-gradient inorganic resist, method for forming function-gradient inorganic resist, method for forming fine pattern, and inorganic resist and process for producing same

WO2011002060 Art A1 6. Januar 2011

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011002060
Aktenzeichen: EP10794228
Anmeldetag: 1. Juli 2010
Veröffentlichung: 6. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/11H01L21/027H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von