Methods and arrangements for in-situ process monitoring and control for plasma processing tools

WO2011002800 Art A2 6. Januar 2011

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011002800
Aktenzeichen: EP10794656
Anmeldetag: 29. Juni 2010
Veröffentlichung: 6. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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