Copolymer for lithography and method for evaluating same

WO2011004787 Art A1 13. Januar 2011

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011004787
Aktenzeichen: EP10797098
Anmeldetag: 5. Juli 2010
Veröffentlichung: 13. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/26C08F220/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

851 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von