Polymer production method, polymer for use in lithography, resist composition and substrate production method

WO2011004840 Art A1 13. Januar 2011

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011004840
Aktenzeichen: EP10797151
Anmeldetag: 7. Juli 2010
Veröffentlichung: 13. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C08F2/00C08F220/10G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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