Curved microwave plasma line source for coating of three-dimensional substrates

WO2011006128 Art A2 13. Januar 2011

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011006128
Aktenzeichen: EP10797954
Anmeldetag: 9. Juli 2010
Veröffentlichung: 13. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/22C23C14/34C23C14/50

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von