Scanning electron microscope device and pattern dimension measuring method using same

WO2011007516 Art A1 20. Januar 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011007516
Aktenzeichen: EP10799580
Anmeldetag: 1. Juli 2010
Veröffentlichung: 20. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01B15/04H01J37/28H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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