Ion-beam generating device, substrate processing device, and manufacturing method of electronic device

WO2011007546 Art A1 20. Januar 2011

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011007546
Aktenzeichen: EP10799610
Anmeldetag: 13. Juli 2010
Veröffentlichung: 20. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/02H01J37/08H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Anelva Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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