Method of manufacturing semiconductor device

WO2011007682 Art A1 20. Januar 2011

Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011007682
Aktenzeichen: EP10799741
Anmeldetag: 25. Juni 2010
Veröffentlichung: 20. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786G02F1/1368H01L21/336H01L21/428H01L21/477

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Semiconductor Energy Laboratory Co, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Semiconductor Energy Laboratory

Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.

4.187 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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