Pattern formation apparatus, pattern formation method, and device manufacturing method

WO2011007896 Art A1 20. Januar 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011007896
Aktenzeichen: EP10740402
Anmeldetag: 14. Juli 2010
Veröffentlichung: 20. Januar 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von